La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) organiza en su sede en Ginebra, el 19 de noviembre de 2015, el “Seminario sobre el Sistema de la Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales: Enfoque práctico y manera de utilizarlo”. El seminario tiene como objetivo orientar  a los usuarios a la hora de designar a los Estados Unidos de América, Japón o la República de Corea en una solicitud de diseño internacional. Además, los usuarios contarán con el punto de vista de un experto del sector privado en relación con una posible estrategia de presentación de solicitudes.

Fecha límite de inscripción: 13 de noviembre de 2015

Más información: http://www.wipo.int/meetings/es/details.jsp?meeting_id=37844

Fecha: jueves, 19 de noviembre de 2015

Horario: 8:50-17:00 h

Idioma: ingles