Patente concedida a un nacional dominicano, primera en concederse luego de la promulgación de la Ley 20-00. El objeto de la Patente se encuentra siendo comercializado en la República Dominicana, y ha sido solicitada además en Estados Unidos, España y Canadá.

Patente Dominicana No.: P2005-0239
Fecha de concesión: 01 de diciembre de 2006.
Titular: Donato Padilla
Invención: BAÑO DE VAPOR Y SISTEMA DE RESISTENCIA EMPLEADO.

Se relaciona con un sistema de resistencia empleado para la producción de vapor de agua utilizado, entre otras cosas, en los baños de vapor. Este dispositivo disminuye el consumo de energía y de agua produciendo en poco tiempo grandes cantidades de del vapor necesario en este tipo de baños. Constituye un dispositivo que por sus características puede ser utilizado en casas, gimnasios, oficinas, etc.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Solicitudes internacionales.

Estados Unidos
Solicitud de Patente No. US20090539403
Fecha de solicitud: 11 de agosto de 2009.

Canadá
Solicitud de Patente No. CA2568469
Fecha de solicitud: 23 de mayo de 2007.

España
Solicitud de Patente No. ES2317766
Fecha de solicitud: 16 de abril de 2009.